国際粉体工業展東京２００８に出展いたします。

会期：２００８年１０月２８日（火）～１０月３１日（金）　１０：００～１７：００

場所：幕張メッセ　１・２・３ホール／国際会議場

出展ブース：A-144

今年は、【LABO&Clean】をコンセプトに掲げ、オリジナルの技術を駆使し、高い性能と使いやすさで研究開発をバックアップするラボ（実験室）用粉砕分級装置を中心に展示いたします。また、製品技術説明会を１０月３１日に開催しますので、会場にお越しの際はぜひお立ち寄りいただきますよう案内申し上げます。

【製品技術説明会】

１０月３１日（金）１１：００～１１：３０　幕張メッセ　Aルームにて
テーマ：ラボスケール（粉砕・分級・表面改質 他）装置について

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皆様のご来場賜りますよう、宜しくお願い申し上げます。